用铁氧体磁环材料抑制电磁干扰(EMI)是经济简便而有效的方法,已广泛应用于计算机等各种军用或民用电子设备。那么什么是铁氧体呢?如何选择,怎样使用铁氧体元件呢?这篇文章将对这些问题作一简要介绍。 | |
μ=△B/△H | |
对于一种磁性材料来说,磁导率不是一个常数,它与磁场的大小、频率的高低有关。当铁氧体受到一个外磁场H作用时,例如当电流流经绕在铁氧体磁环上的线圈时,铁氧体磁环被磁化。随着磁场H的增加,磁通密度B增加。当磁场H场加到一定值时,B值趋于平稳。这时称作饱和。对于软磁材料,饱和磁场H只有十分之几到几个奥斯特。随着饱和的接近,铁氧体的磁导率迅速下降并接近于空气的导磁率(相对磁导率为1)如图1所示。 |
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铁氧体磁环的磁导率可以表示为复数。实数部分μ’代表无功磁导率,它构成磁性材料的电感。虚数部分μ"代表损耗,如图2所示。 |
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磁导率与频率的关系如图3所示。在一定的频率范围内μ’值(在某一磁场下的磁导率)保持不变,然后随频率的升高磁导率μ’有一最大值。频率再增加时,μ’迅速下降。代表材料损耗的虚数磁导率μ"在低频时数值较小,随着频率增加,材料的损耗增加,μ"增加。如图3所示,图中tanδ=μ"/μ’ | |
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图4 铁氧体抑制元件的等效电路(a)和阻抗矢量图(b) | |
二、铁氧体抑制元件的阻抗和插入损耗 | |
铁氧体元件的等效阻抗Z是频率的函数Z(f)=R(f)+jωL(f)=Kωμ"(f)+jKωμ’(f) | |
式中:K是一个常数,与磁芯尺寸和匝数有关,ω为角频率。 |
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铁氧体抑制元件应用时的等效电路如图6所示。图中Z为抑制元件的阻抗,Zs和ZL分别为源阻抗和负载阻抗,Z为铁氧体抑制元件的阻抗。 |
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插入损耗的定义为 | |
式中:P1、V1分别为抑制元件接入前,负载上的功率和电压。 |